根源量子请求一种光刻办法和光刻胶掩膜专利可以减小胶大面积涂覆时应力堆集而引起开裂的危险
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发布时间：2025-02-17 13:03:41 | 点击：1 次
金融界2024年11月27日音讯，国家知识产权局信息数据显现，根源量子核算科技（合肥）股份有限公司请求一项名为“一种光刻办法和光刻胶掩膜”的专利，公开号CN 119024645 A，请求日期为2023年5月。
专利摘要显现，本请求公开了一种光刻办法和光刻胶掩膜，归于光刻工艺技术领域。该光刻办法，包含：构成光刻胶层掩盖晶圆外表；在所述光刻胶层构成沟道以将所述光刻胶层分割成多个互相独立且互相别离的光刻胶单元；以及，在所述光刻胶单元构成光刻图形，并使用所述光刻图形在所述晶圆上构成具有对应图形的元件。该光刻胶掩膜，包含：构成于晶圆外表的多个互相独立且互相别离的光刻胶单元，且所述光刻胶单元具有用于在所述晶圆上构成对应元件的光刻图形。本请求将光刻胶层分割成多个互相独立且互相别离的光刻胶单元释放了应力，然后可以减小光刻胶大面积涂覆时应力堆集而引起开裂的危险。
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